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3月9日上午，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）發(fā)布聲明表示，ASML預(yù)計(jì)必須申請?jiān)S可證方可出口DUV設(shè)備。同時(shí)公司還表示“新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，先進(jìn)程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”荷蘭政府在3月8日表示，計(jì)劃對半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制。據(jù)悉，決定是由荷蘭貿(mào)易部長Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會(huì)的一封信中宣布的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實(shí)施。信中還指出“荷蘭認(rèn)為有必要以最快的速度對這項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行監(jiān)管，因此荷蘭政府將會(huì)盡快出臺一份國家管控清單”。（第一財(cái)經(jīng)）
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